Sobre a técnica de metalização por pulverização (sputtering), assinale com V as afirmações verdadeiras e, com F, as falsas.

( ) Após a inserção das amostras, a câmara de amostras deve ser evacuada para retirar traços de água e oxigênio, que podem ser quebrados em moléculas reativas capazes de oxidar e danificar a superfície das amostras.

( ) Após evacuação da câmara, a atmosfera é substituída por um gás inerte, que não tem potencial de reagir com a superfície das amostras, como argônio.

( ) O “alvo” é a peça que funciona como a fonte de metais para formação da camada metálica sobre as amostras e pode ter diversas composições, por exemplo: ouro; platina; ligas de ouro/paládio, entre outras.

( ) Aplica-se um campo negativo de alta voltagem na área da câmara, em que o alvo está localizado e as moléculas de gás argônio são ionizadas em Ar+ e elétrons.

( ) As moléculas de Ar+ atingem com força o alvo negativamente carregado, o que promove a ejeção de átomos de metal. Os átomos ejetados eventualmente atingem a superfície das amostras e se acumulam formando um revestimento metálico.

( ) Assim como no processo de metalização por evaporação térmica, as partículas são arremessadas em linha reta sobre a superfície das amostras.

Assinale a sequência correta.