Dentre as aplicações abaixo, assinale a que NÃO corresponde a uma aplicação de spin-on.

O processo que permite a remoção total dos sais dissolvidos da água é denominado desmineralização. Existem vários processos para se obter a desmineralização da água, um dos processos finais é a troca iônica (o qual também pode ser conhecido como polimento). Na troca iônica, a água, sucessivamente, atravessa uma camada de resina catiônica e uma camada de resina aniônica. Com relação à espécie química adsorvida na resina catiônica e o pH da água logo após atravessála, pode-se afirmar que são, respectivamente,

Quais as fontes de UV para os comprimentos de onda: 436 nm, 405 nm, 365 nm, 193 nm e 249 nm respectivamente?

O processo químico de forma seca, através da remoção por plasma, pode ser realizado por meio da utilização de plasma de oxigênio, onde ocorre a oxidação do resiste, removendo-o da superfície. As remoções de resistes por meio de soluções líquidas são também usadas e preferidas nos processos de front end of the line (processo de fabricação frontal e de linha do Circuito Integrado), onde a superfície e o estreito canal de condução (fonte e dreno) do circuito são

Água ultrapura é majoritariamente usada na indústria dos semicondutores e farmacêutica. Na indústria dos semicondutores, assiste-se à escala de fabricação, que é cada vez menor. Devido a isso, a água pura usada nesse tipo de indústria, tem especificações cada vez mais estritas. A fim de que possa obter a condutividade adequada, a produção de água ultrapura pode ser feita em 2 (duas) etapas, seguidamente

Considere o estágio de saída classe AB nas condições em que V_CC = 12 V, R_L = 1 kΩ e a saída é senoidal com amplitude máxima de 10 V. Suponha que o casamento dos transistores bipolares de junção Q_N e Q_P com ganho de corrente em emissor comum é igual a 49 e que os diodos de polarização têm uma área de junção de um terço da área da junção dos dispositivos de saída. O valor da corrente de polarização, IBIAS, que garantirá uma corrente mínima de 100 μA através dos diodos o tempo todo e a corrente quiescente nos transistores de saída são, respectivamente:

A maior parte dos circuitos integrados atualmente comercializados é processada a partir de que tipo de substrato indicado abaixo. Assinale-o.

O resultado, em base decimal, de A XOR B, onde A = (24)₁₆ e B = A + (14)₁₆ é

Leia as afirmativas abaixo acerca da oxidação de silício.

I – Para obtenção de uma mesma espessura de óxido a uma dada temperatura, a oxidação seca é um processo mais rápido que a oxidação úmida.

II – A oxidação úmida é realizada pela técnica spin-on.

III – A oxidação consome silício do substrato, de maneira que a espessura total após a oxidação não é igual à soma da espessura inicial da camada de silício com a espessura da camada de óxido.

Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s)

Ao se comunicarem por meio de uma de rede de dados, há certos atributos de qualidade dos dados a serem transmitidos que devem ser preservados. O processo de cifragem destes dados com a chave secreta de uma das partes da comunicação visa a garantir, primordialmente, qual dos seguintes atributos?